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掩膜版｜保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)（PDS）為掩膜版、掩膜版保護(hù)膜以及基板（襯底）制造工藝，提供高通量的表面顆粒污染檢測(cè)服務(wù)。 該系統(tǒng)對(duì)粒徑大于 0.1µm 的顆粒具有高靈敏度，是一種高效且提供服務(wù)的選擇。它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式，以及較低的維護(hù)成本，取代傳統(tǒng)的顆粒檢測(cè)系統(tǒng)。

Fastmicro 晶圓表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)（PDS)，專為各行業(yè)產(chǎn)品表面顆粒污染物直接測(cè)量而設(shè)計(jì)，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域的晶圓、薄膜及光罩檢測(cè)，也可用于顯示市場(chǎng)等基板檢測(cè)。該系統(tǒng)配備 4-12 英寸視場(chǎng)（FOV）掃描區(qū)域，支持上下表面檢測(cè)。其光學(xué)設(shè)計(jì)使產(chǎn)品在計(jì)量過程中無(wú)需移動(dòng)即可完成檢測(cè)。該系統(tǒng)可根據(jù)不同生產(chǎn)工藝需求進(jìn)行定制，或直接集成至產(chǎn)線。

Fastmicro 儀器表面顆粒物分析儀，是一款基于“膠帶粘取”采樣技術(shù)的表面污染檢測(cè)工具，可通過間接測(cè)量方式識(shí)別小至 0.5um 的顆粒污染物。其配備的專用 PMC 采樣卡能在各類表面（包括難以觸及區(qū)域和高粗糙度表面）實(shí)現(xiàn)靈活采樣，且不會(huì)殘留可檢測(cè)的痕跡。該設(shè)備可在數(shù)秒內(nèi)完成 225 mm2 采樣區(qū)域的分析，確保快速獲得精準(zhǔn)檢測(cè)結(jié)果。搭配 2 英寸晶圓支架，也可對(duì)沉降顆粒進(jìn)行檢測(cè)，滿足跨行業(yè)復(fù)雜

Fastmicro 環(huán)境落塵顆粒實(shí)時(shí)監(jiān)控儀，專為潔凈室顆粒沉積速率測(cè)量而研發(fā)，支持秒級(jí)間隔的數(shù)據(jù)采集，精準(zhǔn)測(cè)量 0.5 um 以上顆粒。結(jié)合直觀易用的軟件系統(tǒng)，幫助客戶實(shí)現(xiàn)從單純空氣監(jiān)測(cè)向表面潔凈度監(jiān)測(cè)的跨越式升級(jí)，為工藝流程優(yōu)化和潔凈度持續(xù)改進(jìn)提供科學(xué)依據(jù)。