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加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 Phenom ProX 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升級(jí)，易于操作，元素分析更快速。

荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場發(fā)射電子源臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場發(fā)射電子源，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優(yōu)異。飛納臺(tái)式場發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 低電壓成像優(yōu)勢明顯，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，更好地觀測絕緣和電子束敏感的樣品，可以還原樣品真實(shí)形貌。

第六代 Phenom Pro 高分辨率臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 CeB6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，Phenom Pro 可以適用于廣泛的研究領(lǐng)域。

全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。Phenom XL G2 臺(tái)式掃描電鏡大樣品室版升級(jí)為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。